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锆靶材的生产工艺！
锆靶材通常由纯度≥99.9% 的金属锆或锆合金制成，可根据需求掺杂其他元素（如钇、铪等）。其基础材质多为纯锆（R60702/R60704 等级）或锆合金（如 Zr-2.5Nb）。原料提纯：采用电子束熔炼或碘化法获取高纯度锆（≥99....
铌靶材的制备工艺是怎样的？
铌靶材的制备工艺主要包括以下步骤：1、原料准备：使用纯度达99.95%以上的铌铸锭作为原料。2、锻造：通过多次锻造来调整靶材的微观结构，变形量通常控制在40%-80%之间，温度范围为400-600℃。3、酸洗：使用硫酸...
金靶的全面解析！
一、金靶的定义与基本概念金靶是一种贵金属靶材，主要用于溅射镀膜工艺。在物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积等半导体制造过程中，金靶作为固态材料被用于沉积形成薄膜或涂层。金靶的化学稳定性好，能够抵抗大多数化学...
结晶锆有哪些主要应用？
结晶锆作为一种高纯度金属材料，凭借其优异的耐腐蚀性、高温稳定性和中子吸收特性，在多个工业领域具有广泛应用。以下是其核心应用领域的详细分析：一、化工设备领域耐腐蚀设备制造：结晶锆广泛用于制造反应釜、换...
如何选择适合的铜管靶纯度？
一、铜管靶纯度等级与核心应用场景1、4N级（99.99%）应用：半导体引线框架、高导电材料。特点：杂质总含量≤100ppm，适用于对纯度要求不苛刻的工业场景。2、5N级（99.999%）应用：磁控溅射靶材、超导接头...
高纯材料的制备工艺有哪些！
高纯材料的制备工艺主要分为湿法提纯和火法提纯两大类，具体方法包括区域熔炼、溶剂萃取、电解精炼等。以下为常见工艺的简要说明：一、湿法提纯通过化学反应分离杂质，适用于金、银、锌、钴等金属。典型方法包括：...
锆靶和钛靶的区别！
锆靶与钛靶作为溅射镀膜领域的重要靶材，在材料特性、应用场景及性能上存在显著差异：1. 材料特性对比①. 锆靶熔点：1852℃；密度：6.49 g/cm³；耐腐蚀性：极强，尤其耐酸碱；热中子吸收：低截面，核工...
结晶铪的应用领域有哪些？
结晶铪作为一种高纯度金属材料，凭借其独特的物理化学特性，在多个高技术领域具有不可替代的应用价值。1. 核工业领域核反应堆控制棒：结晶铪因热中子吸收截面大，成为核反应堆控制棒的核心材料，用于精确调节核...
钛靶制备工艺对比的区别！
钛靶的制备主要采用熔铸法和粉末冶金法，两种工艺在适用性、成本及性能上存在显著差异：1. 熔铸法原理：将高纯钛原料在真空或惰性气体保护下熔炼，浇铸成锭后经轧制、锻造及机加工成型。优点：设备...
4N铬靶的制备工艺是怎样的？
4N铬靶的制备工艺主要涉及高纯度原料处理、熔炼成型及后期加工，核心方法包括真空熔炼法和粉末冶金法，具体流程如下：1. 原料准备纯度要求：选用初始纯度≥99.9%的铬原料，通过化学清洗和真空干燥去除表面氧化...
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