一、工業製造分野

1、PVDめっき技術

チタンターゲット合金は物理蒸着（PVD）の核心材料として、スパッタリング或いは蒸発プロセスにより高純度チタン薄膜を生成し、半導体チップ導電層、光学鏡面コーティング及び硬質工具の表面強化に広く応用されている、

環状チタンターゲットは回転マグネトロンスパッタリング装置に適合し、薄膜の均一性が20%〜30%向上し、半導体装置の抵抗率を著しく低下させる。

2、表示と光学デバイス

高純度チタンターゲットはOLED表示パネルの電極層堆積に用いられ、その低抵抗特性はスクリーン消費電力を低減することができる、

チタンアルミニウム複合ターゲットは成分比率を調整することにより、特定の屈折率の光学フィルムを生成し、AR/VR装置の光学めっき需要に適している。

3、高温工業コーティング

チタンニッケルジルコニウム合金ターゲットから生成されたコーティングは1200℃に耐えられ、航空エンジン翼の熱バリアコーティングに用いられ、耐用寿命が3倍以上延長された。

二、エネルギー環境保護分野

1、太陽電池鄒

チタンアルミニウム複合ターゲットは光起電力電池のバック電極に用いられ、光電変換効率を高める。

ペロブスカイト電池の電子輸送層としてチタン薄膜をスパッタし、電荷再結合率を著しく低下させた。

2、原子力装置

チタンジルコニウム合金ターゲットは原子炉制御棒シェルを製造し、中性子吸収断面積を最適化した後、臨界安全マージンを15%向上させた。

四、新興分野の応用

フレキシブル電子鄒：超薄チタンターゲットは巻対巻スパッタリング技術を通じて、フレキシブル回路導電層を製造し、曲げ寿命＞10万回、

水素エネルギー触媒鄒：チタンルテニウム合金ターゲットの電解水による水素製造の触媒効率は85%に達した。

五、技術発展の趨勢

1、複合化設計：チタンアルミニウム、チタンニッケルジルコニウムなどの多組元素ターゲットの比率が上昇し、2025年の市場シェアは48%に達する見込み；2、インテリジェント化製造：レーザー3 D印刷技術は異形チタンターゲットの高速成形を実現する。