一、銅管ターゲットの純度等級とコア応用シーン

1、4 N級（99.99%）

応用：半導体リードフレーム、高導電材料。

特徴：不純物総含有量≦100 ppm、純度に対する要求が厳しくない工業シーンに適用する。

2、5 N級（99.999%）

応用：マグネトロンスパッタリングターゲット、超伝導継手、量子デバイス。

特徴：不純物≦10 ppm、7 nm以下のプロセスのチップ製造需要を満たす。

3、6 N級（99.9999%）

応用：極紫外光（EUV）反射鏡、核物理検出器。

特徴：不純物≦1 ppm、超純シーン、例えば高精度光学めっき膜に用いる。

二、マグネトロンスパッタリング技術の純度選択

7 nm以下のプロセス：5 Nまたは6 N級の銅ターゲットが必要であり、金属不純物はppb級に制御される。

重要な指標：間隙元素（O、S、P）≦5 ppm、脆性相の形成が薄膜品質に影響することを避ける。

三、提案の選択

工業レベルの応用：4 Nレベル（例えば原子炉ケーシング材料）

ハイエンド半導体/光学系：5 N-6 N級を優先し、スパッタ薄膜の導電性と均一性を確保する。