一、半導体製造

1、リソグラフィコア材料の鄒

5 N-6 N石英砂鄒：EUVリソグラフィーレンズ、フォトマスク基板に用いられ、純度不足はチップの良率低下を招く。

7 N級高純銅鄒：フォトリソグラフィーミラーを製造し、電気伝導率は白銀に近く、光学精度を向上させる。

2、ウエハ製造

高純度石英るつぼ：単結晶シリコン引張容器、不純物≦0.002%はシリコンウェハの低欠陥率を保障する。

高純度モリブデンターゲット：マグネトロンスパッタリングめっき膜に用いられ、不純物総量≦0.001%である。

二、新エネルギーと貯蔵エネルギー

1、固体電池鄒

高純度硫化リチウム鄒：硫化物固体電解質重要材料、イオン伝導率は5.57 mS/cmに上昇した。

2、光起電力技術

ペロブスカイト積層電池鄒：広帯域ギャップペロブスカイト薄膜の純度制御は32.5%光電変換効率を実現する。

石英繊維強化複合材料：光起電力パッケージ基板の耐熱性と絶縁性を向上させる。

三、ハイエンド装備と光学

1、航空宇宙‌

高純度アルミナ：宇宙機熱防護システムは高温層に耐え、＞2000℃の極端な環境を防ぐ。

高純度バナジウム合金鄒：軽量化高強度部品を製造し、航空機の重量を低減する。

2、精密光学鄒

ハイエンドフッ化マグネシウム：純度＞99.995%、光学性能は直接チップの製造工程精度に影響する。

四、化学工業と新材料

1、電子化学品の鄒

高純度フェノールアミド：ビスフェノールA合成コア原料、ハイエンドポリカーボネート樹脂に使用する。

2、耐火と特殊セラミック鄒

高純度酸化マグネシウム：耐火物が70%、高温に耐える＞2800℃である。

五、新型表示技術

Micro LEDドライバ

高純度半導体カーボンナノチューブ薄膜鄒：移動度は40 cm²/（V・s）に達し、数千PPI分解能マイクロディスプレイの量産を支持する。