ハフニウム（Hf）スパッタリングターゲットは、高温抵抗を有するため、薄膜業界で広く使用されている。これらは主に集積回路や光ファイバケーブルなどの応用におけるハフニウム系薄膜の堆積に用いられる。また、ハフニウムの高校生吸収断面積のため、これらのターゲットは原子炉の制御棒の製造にも使用されている。
