耐高温スパッタリングターゲットは、多くのハイテク分野において重要な役割を果たしており、特に高温安定性を必要とする応用シーンにおいて。以下は10大耐高温スパッタリングターゲットの紹介である：

モリブデン及びモリブデン合金ターゲット

特徴：モリブデンは銀灰色金属で、融点は2623°Cに達し、密度は10.2 g/cm³である。モリブデン及びその合金は高融点、良好な導電熱伝導性、低熱膨張係数、優れた耐食性及び環境に優しいなどの利点を有する。

応用：モリブデン及びモリブデン合金ターゲットはすでに電子電器、太陽電池及びガラスめっきなどの分野に広く応用されている。

ルテニウム金属ターゲット

特徴：ルテニウムターゲットは良好な耐熱性、耐食性と機械的強度を有し、高温、高圧と腐食環境下での使用に適している。

製造技術：ルテニウム粉を黒鉛金型に入れ、振動固着して圧縮した後、真空熱圧炉に入れて一方向熱圧焼結を行い、焼結過程は保護ガス雰囲気下で行い、焼結温度は1600-1800℃、焼結圧力は5-20 MPaである。

応用：ルテニウムターゲットは電子デバイスの薄膜堆積に用いられ、光学薄膜と光学めっき膜などを製造することができる。

超高純度アルミニウムスパッタリングターゲット

特徴：アルミニウムターゲットは高純度と優れた導電性を有し、半導体装置の導電層と障害層の製造に適している。

市場現状：2029年に世界の超高純度アルミニウムスパッタリングターゲットの市場規模は3.8億ドルに達し、年間複合成長率CAGRは5.6%に達すると予想される。

主なメーカー：Sumitomo Chemical、Konfoong Materials International、Linde、TOSOH、Honeywellなどを含む。

銅インジウムガリウムセレン（CIGS）ターゲット

特徴：CIGSターゲットは主に薄膜太陽電池の生産に用いられる。

応用：太陽エネルギー業界の急速な発展に伴い、CIGSターゲットへの需要も増加している。

酸化インジウムスズ（ITO）ターゲット

特徴：ITOターゲットは主に透明導電膜の製造に用いられ、タッチスクリーンとフラットパネルディスプレイに広く応用されている。

市場地位：消費電子製品の需要の増加に伴い、ITOターゲットの市場地位はますます重要になっている。

タングステンターゲット

特徴：タングステンは高融点（3422°C）と優れた耐摩耗性を有し、高温と耐摩耗材料のスパッタリング堆積に適している。

応用：タングステンターゲットは半導体、電子デバイスと耐摩耗コーティングなどの分野で広く応用されている。

チタンターゲット

特徴：チタンターゲットは良好な耐食性と生体適合性を有し、医療機器と生体センサのスパッタリング堆積に適している。

応用：医療技術の発展に伴い、医療機器分野におけるチタンターゲットの応用の将来性は広い。

タンタルターゲット

特徴：タンタルターゲットは高融点（2996°C）と優れた化学安定性を有し、高温と化学安定材料のスパッタリング堆積に適している。

応用：タンタルターゲットは電子デバイス、航空宇宙、化学工業の分野で広く応用されている。

ニオブターゲット

特徴：ニオブターゲットは高融点（2468°C）と優れた超伝導性能を有し、超伝導材料と電子デバイスのスパッタリング堆積に適している。

応用：ニオブターゲットは超伝導材料、電子デバイス及び航空宇宙分野に広く応用されている。

ジルコニウムターゲット

特徴：ジルコニウムターゲットは良好な耐食性と生体適合性を持ち、同時に比較的に高い融点（1852°C）を持ち、耐食性と生体適合材料のスパッタリング堆積に適している。

応用：ジルコニウムターゲットは医療器械、化学工業設備と電子部品などの分野で広く応用されている。

以上のように、上記10大耐高温スパッタリングターゲットはそれぞれ特色があり、半導体、光学、光起電力、電子デバイス、医療機器などの多くの分野に広く応用されている。科学技術の進歩と市場ニーズの変化に伴い、これらのターゲットの研究開発はより高性能、より低コスト、より環境に優しい方向に発展している。