鄒高純銅管ターゲットは高純度の銅材料であり、特定の加工技術を経て製造されたターゲットであり、特定の寸法と形状を有する。このようなターゲットは、通常、真空コーティング業界、特にスパッタリング中の薄膜の製造に用いられる。高純銅ターゲットはその優れた物理的及び化学的性質のため、電子、通信、超伝導、宇宙飛行などの先端分野に広く応用されている。具体的には高純銅管ターゲットまで、管状のターゲットであり、利用効率は高いが、加工は容易ではなく、一連の複雑な加工工程を経て最終的に完成品を得る必要がある。このターゲットは生産、研究開発及び技術応用において優れた優位性を備え、情報電子、冶金、功新エネルギーなどの業界で広く応用されている。
また、高純銅ターゲットの純度は通常4 N（Cu≧99.99%）以上であり、薄膜堆積プロセスに用いられる材料であり、極めて高い純度と特定の物理的、化学的性質を有する。それは通常、物理的蒸発、マグネトロンスパッタリングなどの過程で、銅材料を原子または分子の形で基板上に堆積して、薄膜または多層材料を製造するために平板または円盤の形で製造される。高純銅ターゲットの製造及び使用には、製造されるフィルムが高い均一性及び純度を有することを確実にするために、極端な品質制御が必要である。このような高度に清浄な銅ターゲットは、半導体製造、ディスプレイ製造、光起電力電池などの分野で広く使用されている。
