ステンレスマルクロムターゲットは、主にスパッタリングめっき中に用いられるめっき技術に用いられる材料である。
スパッタリングめっき膜の源材料としてステンレス鋼の円形クロムターゲットが用いられ、その作用は高速荷重粒子の衝撃により、適切なプロセス条件下で、材料を基板上にスパッタリングして各種機能薄膜を形成することである。この技術は半導体、太陽電池、ディスプレイ製造などの分野に広く応用され、特定の物理的または化学的性能を実現する。ステンレス鋼の円形クロムターゲットの純度、形状、寸法は、最適なめっき効果を確保するために、具体的な応用ニーズに応じてカスタマイズすることができる。
また、ステンレス鋼の円形クロムターゲットの純度、形状、サイズは、最適なめっき効果を確保するために、特定の用途のニーズに応じてカスタマイズすることができます。この材料の純度は通常、高品質のめっき膜要件を達成するために高い。ステンレス鋼の円形クロムターゲットの応用は上記の分野に限らず、高精度、高性能フィルムを必要とする他の応用シーンにも及ぶ可能性がある。
