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铜管靶是一种用于真空溅射镀膜的高纯铜材料制品。‌它属于溅射靶材的一种，是真空镀膜行业中的重要组成部分。铜管靶通常由高纯度的铜材料经过一系列的加工工艺制成，具有特定的尺寸和形状，如平面铜靶材和旋转铜靶材之分。平面铜靶材通常是片状的，有圆形、方形等，而旋转铜靶材则是管状的，利用效率较高，但不易加工，需要通过多种加工工序才能最终制成。