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钛靶是用于‌物理气相沉积(‌PVD)等薄膜沉积技术中的高纯度钛或钛合金材料。

钛靶材的基本介绍、制备工艺、应用领域及发展趋势如下：

基本介绍：钛靶材是由纯钛或其合金通过特定的工艺制备出的具有特定形状（如圆形、方形或其他复杂的形状）和精细表面的靶材。在涉及物理蒸发或溅射过程的领域中，钛靶材作为物质来源，供应原材料。

制备工艺：钛靶材的制备涉及特定的工艺，以确保其具有所需的形状和表面精细度。

应用领域：钛靶材在现代工业生产中发挥着至关重要的作用，尤其在推动科技进步方面具有深远影响。