铌平面靶是一种具有一定厚度的圆形或矩形靶材，主要用于溅射镀膜过程。在溅射镀膜技术中，铌平面靶作为阴极溅射靶材，通过溅射过程将铌原子以氧化物形式淀积在基板材料上，实现镀膜。这种靶材的性能对溅射镀膜过程的稳定性及薄膜的电性能具有决定性影响。铌平面靶材通常称为裸靶，使用前需要与铜背靶进行焊接，然后在专用机台上进行溅射，以确保溅射镀膜的质量和稳定性。此外，铌平面靶材还广泛应用于光学玻璃、平面显示行业、建筑玻璃镀膜行业、薄膜光伏太阳能电池电极膜系等领域，展示了其在现代工业和技术应用中的重要角色。
