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‌锆靶是一种用于磁控溅射镀膜的材料，主要成分是锆。 锆靶材具有高熔点、良好的强度和塑性匹配等优点，是一种银白色的稀有金属。由于其独特的物理和化学性质，锆靶材在许多应用中发挥着重要作用，特别是在磁控溅射镀膜技术中，锆靶材被用作靶材，通过溅射技术将锆原子沉积在基材上，形成薄膜。这种薄膜可以应用于各种领域，如电子、光学、太阳能等，以改善材料的性能或提供特定的功能。