多弧锆靶是一种用于多弧离子镀膜技术的靶材。它主要用于多弧镀膜技术中，这种技术以其高沉积速率和优异的膜层附着力而被广泛应用于工具涂层和装饰涂层。多弧锆靶作为溅射源，通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜。简单来说，多弧锆靶就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。此外，多弧锆靶的材质纯度通常很高，例如纯度可以达到99.7%，并且可以根据需求定制不同的规格，如圆柱靶、平面靶或多弧靶，以满足不同的应用需求。
